■■産学連携で先端技術をニユービジネスへ■■■■■■■■■
TSIメールマガジン 2005年5月号
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発行日2005年5月23日
テクノロジーシードインキュベーション株式会社
http://www.tsi-japan.com/
平素は大変お世話になっております。
産学連携が活発になったことで、大学への垣根が非常に低くなってきました。その結果、産学連携に関して、これまであきらめていた企業も参加する傾向が見受けられます。非常にすばらしいことです。一方で、今後大学側は企業の現実を目にする機会が増えてくると思われます。資金繰りの苦労、営業の苦労など・・・このときに漸く、各者各自の本当のスタンスも見えてくるのではないでしょうか？そろそろそのような警鐘を鳴らす時期に差し掛かっていると思われますが、皆様如何お考えでしょう？
弊社へのご要望、産学連携のご相談、製品開発企画のご相談、
技術面でのご相談、商品情報や提携のご相談などございましたら、
メール・お電話でもなんでも結構です、
是非ご連絡ください！（http://www.tsi-japan.com/html/otoiawase.html）
（１）プロジェクト情報
弊社およびイオン工学研究所では、新年度のプロジェクトを企画し、チームの組成をいっております。すでに、経済産業省の「地域新生コンソーシアム」に４件の申請をおこないました。
イオン工学研究所では、化合物半導体基板へのイオン注入に関する各種技術相談および共同研究の受託、各種薄膜成膜技術の相談および共同研究の受託、表面分析技術の相談および共同研究の受託を行っております。
特にワイドギャップ半導体基板へのイオン注入に関してはそのデータも含めて保有しており、注入～分析までの開発工程が当社では可能です。
各技術に基づく共同プロジェクトをご提案申し上げますので、ご興味があれば是非ご連絡ください。
http://www.tsi-japan.com/html/otoiawase.html
（２）開発資金情報
①「大学発事業創出実用化研究開発事業」に係る研究開発テーマの公募について平成17年度第2回が発表されました。（締め切り7月19日です）
http://www.nedo.go.jp/informations/koubo/170519_1/170519_1.html
当社は、本事業についてはこれまでにも実績がございますので、ご相談があれば是非ご連絡ください。
②大阪府「大学発ベンチャー創出促進事業補助金」（締め切り6月17日です）
http://www.pref.osaka.jp/fumin/html/06573.html
新たに大阪で大学発ベンチャーを起業しようとする方々に対して、大阪府が指定する支援機関の協力によるフィージビリスタディおよび事業計画策定の資金を補助しようというものです。
（３）ヴァーチャルラボ情報
http://www.tsi-japan.com/html/project_ams.htm
また、イオン工学研究所でも分析を受託いたしており、特にTEM、SIMS、ESCAによる分析については高い評価を頂いております。是非お問い合わせください。
（４）採用情報（継続）
TSIでは現在、インキュベーションプロデューサーを募集しております。
特に、プロジェクト企画経験者、営業経験者、投資経験者、管理事務経験者を募集いたしております。
http://www.tsi-japan.com/html/saiyou.htm
是非、ご紹介ください！！
特に、ベンチャー精神あふれる人材を募集しております。
（５）プロジェクト募集！！
TSIではプロジェクトを募集しております。特にエレクトロニクス・精密機械・材料開発・バイオに重点を置いたプロジェクトを探索しております。
是非、御問い合わせください。（http://www.tsi-japan.com/html/otoiawase.html）
何かご不明な点、ご質問などございましたら、弊社までお問い合わせ下さい。
なお、本ニューズレターの配信が不要な方は、「配信不要」とメッセージをつけて
下記メールアドレスまで返信を頂ければと存じます。
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ﾃｸﾉﾛｼﾞｰｼｰﾄﾞｲﾝｷｭﾍﾞｰｼｮﾝ株式会社（並木）
京都市中京区室町御池下ル円福寺町342-1
VOICE21ﾋﾞﾙ2F
TEL: 075-213-8651 FAX: 075-213-8652
e-mail: admin@tsi-japan.com
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